邀请他们参加2019年度的新品推介会。
继破晓A220EUV、破晓D400DUV、破晓A3XEUV光刻机之後，星源科技拿出了一款足以颠覆行业现状的划时代产品—曙光SXR100光刻机。
全球第一台软X射线光刻机！
单台售价6.2亿美币，价格堪比一架大型商用客机！
最让人震惊的是，它最高支持100皮米级制造精度。
顷刻间，半导体行业掀起了惊涛骇浪。
但与橙子医疗攻克胰腺癌时的欢呼不同，这一次，学术界的第一反应却是质疑。
「软X射线光刻？压根不可能实现工业化！」
剑桥大学的物理教授詹姆斯在个人社交帐号上发文批驳。
「软X射线的波长确实在0.1—10纳米之间，理论上可以达到皮米级精度。
但问题在於，这个波段的光源几乎会被所有材料吸收！
透射式光学系统无法工作，反射式系统的效率又非常低下，更不用说光刻胶对软X射线的敏感度问题了。
我承认星源科技在半导体领域的技术实力和行业地位，但这并不意味着它可以用夸大的宣传来误导公众。」
他的质疑，在半导体圈内引起了广泛共鸣。
东京大学的半导体研究团队则从材料学角度提出了质疑。
「软X射线的穿透力太强，会对矽晶圆造成辐射损伤，影响器件的可靠性。」
「就算勉强制造出晶片，良品率也将低到令人发指的程度！」
就连国内，也有不少专家持怀疑态度。
质疑声在网络上越演越烈。
一篇名为《为什麽软X射线光刻机是伪命题》的技术分析文章，在逼乎和Reddit上同时登上了热榜前三。
文章作者是一个在湾积电工作了十五年的资深工程师，他在文中详细阐述了软X射线光刻面临的三大技术障碍。
第一，光源问题。
软X射线通常由同步辐射或雷射等离子体产生，但无论哪种方式，功率都远远不够。
就拿EUV光刻机来说，使用的是13.5纳米的极紫外光，光源功率高达数十千瓦。
而软X射线波长更短、光子能量更高，想要实现生产所需的曝光效率，除了更亮、更稳定的光源，还得解决能量转换效率、散热和连续运行等一系列工程难题。
第二，光学系统问题。
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