虽然跟外面的比,他们手里这家夥还差着身位。
人家最顶尖的极紫外光刻(EUV),早就把芯片推到了2纳米节点上。
他们这台浸没式光刻(DUV)连同多重曝光,往极限里一点一点地逼,才把七纳米硬生生啃了下来,工艺更费,良率也更难看。
可这条路能不能走通,从来就不只看单颗芯片的成色。
单颗追不上,那就拿数量去填,成千上万颗加起来连成一片,靠着规模硬生生把那点差距给抹平了不少。
何况国内的电费便宜,电力又管够,这麽大一片的芯片也就喂得起。
这条路是真真切切,被他们走通了。
而且这条路能走到今天,里面离不开的还是……李东那套降维算法。
是那套算法解决了流热耦合实时控制。
林伟到现在都还记得,当年那个在华轩杯复赛卷子最後一问里,写下“双光束激光干涉无掩模光刻”方案的高中生。
时间一晃,竟也有两年了。
这些年,林伟在各种场合,没少听见这个名字。
数学、太阳物理,甚至医疗上他都听见过李东这个名字。
“你到底还藏着多少东西呀,李东——教授!”
想到这儿,林伟居然忍不住笑了起来。
就在这时,他西装口袋里的手机震懂了起来。
这个点这种场合,能打进来的电话,多半没什麽好事。
林伟皱了皱眉,腾出一只手,把手机摸了出来,正要挂断。
可当他的视线,扫过屏幕上那个名字时……
他的动作,停住了。
林伟转过头,冲身旁那名技术员说道。
“这边你先盯着,我接个电话。”
说完他推开厂房的门,快步走了出去。
“您好,李东教授?”
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