赵长安点点头，TWINSCAN AT:750T使用的是波长为248nm的KrF光源（氟化氪激光）系统，支持最小工艺制程130nm生产，优势就是TWINSCAN系统的双晶圆平台，工作效率大幅度提升。
PAS5500目前使用的有i-line光源（高压汞灯）365nm，最小工艺制程800-250nm，248nm的KrF激光光源，最小工艺制程到180-130nm。
两者之间的区别就是TWINSCAN AT:750T的工作效率更高，不过价格更贵，整机架构更加的精密复杂，零件更多。
可以想见的是，下一步ASML肯定是要把TWINSCAN AT向上和向下带入365纳米i-line光源，193nmArF（氟化氩）光源领域，形成一个系统性的光源跨度，满足用户不同的芯片制程需求。
不过既然PAS5500既然已经有了足够的光源跨度和诸多型号，而且有了十年不断的技术完善和稳定性的证明，就算单机效率低一点赵长安也能忍受。
单机效率低多买几台就行了，而且真要是订单够多，可以让工人三班倒，人有多大胆地有多大产办法总比困难多。
看看萧扬明说的5500今年没货，750的订单却只是排到今年五月，赵长安就知道这些资本家们哪一个都是贼精明，毕竟相比已花更多的钱购买昂贵的机器，不如花小钱给工人开工资划算。
而实际上在赵长安的前一世，ASML凭借着5500从一个濒临破产倒闭的企业，一直干到行业第二，直到06年全球首台浸没式光刻机TWINSCAN XT:1700i，193nm光刻机，最小工艺制程到45nm，上市量产，才逐步停产利润太低的PAS5500系列，而5500经过了十六七年的不断的研发迭代，已经有了十几个型号。
ASML的TWINSCAN AT系统双晶圆平台，在目前的制程工艺里面，并没有足够的性价比优势，因为现在即使ASML收购了SGV，然而依然有着Nikon和Canon这两家强大的步进式光刻机企业，可以提供同类的产品。
无论是G-line436nm光源，还是I-line，KrF，这三家企业对市场份额的争夺一直都比较激烈。
况且在G-line，I-line领域，除了这三家企业，Hitachi（日立），ABM，NuFlare Technology（东芝下属企业纽
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